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SUN-2100N適用于功率器件制造過程中保護(hù)鋁等金屬基底。功率器件制造過程中需要腐蝕鋁等金屬薄層，傳統(tǒng)工藝中使用二甲苯光刻膠。這類光刻膠不僅有毒性，而且在使用過程中產(chǎn)生大量有機(jī)廢液。石油醚閃點(diǎn)為-20 °C，被用做顯影液，存在燃爆風(fēng)險。濃硝酸通常被用來剝離KTFR，是一個安全隱患。SUN-2100N由星泰克自主創(chuàng)新發(fā)明，完全無毒，可以有效保護(hù)鋁等金屬基底。SUN-2100N使用標(biāo)準(zhǔn)TMAH（2.38%）顯影，純水定影，既環(huán)保又安全。有機(jī)溶劑取代濃硝酸剝離光刻膠。